Adaptives Optisches Element für die Mikrolithographie

EP4226215 Art A1 16. August 2023

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4226215
Aktenzeichen: EP21790116
Anmeldetag: 6. Oktober 2021
Veröffentlichung: 16. August 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G02B5/08G02B26/08G02B7/185

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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