Schattenringkit für Plasma-Ätzwafer-Vereinzelungsprozess
EP4226414
Art A1
16. August 2023
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4226414
- Aktenzeichen
- EP21878205
- Anmeldetag
- 16. September 2021
- Veröffentlichung
- 16. August 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/67H01L21/683H01L21/687H01J37/32H01L21/78B23K26/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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