Siliciumcarbidvorrichtung mit Metallischen Grenzflächenschichten und Verfahren zur Herstellung
EP4228004
Art A1
16. August 2023
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4228004
- Aktenzeichen
- EP22155913
- Anmeldetag
- 9. Februar 2022
- Veröffentlichung
- 16. August 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/12H01L29/417H01L29/45
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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