Verfahren zur Herstellung einer Kristallinen Siliziumschicht auf einem Substrat mit Integrierten Elektronischen Bauelementen

EP4228993 Art B1 31. Dezember 2025

Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4228993
Aktenzeichen
EP21794797
Anmeldetag
15. Oktober 2021
Veröffentlichung
31. Dezember 2025
Erteilung
31. Dezember 2025
Rechtsraum
EP
IPC
B81C1/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Fraunhofer-Gesellschaft

Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.

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Kanzlei
Patentanwalt Dr. Roland Gagel München, Deutschland
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