Sputtertarget und Herstellungsverfahren dafür
EP4249628
Art A1
27. September 2023
Anmelder: Kolon Industries, Inc. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4249628
- Aktenzeichen
- EP22767325
- Anmeldetag
- 26. Januar 2022
- Veröffentlichung
- 27. September 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C23C14/16C23C4/067C23C4/129C23C24/04H01J37/34B22F1/065B22F1/08B22F7/06B22F7/08B22F10/25B33Y10/00C22C38/32C22C38/22C22C45/02C23C24/08C23C14/14
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Kolon Industries, Inc.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Kolon Industries
Südkoreanischer Mischkonzern, tätig in Chemie- und Materialtechnik, Herstellung von Industriefasern, Kunststoffen und Textilprodukten.
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