Lithografieverfahren zur Herstellung von Strukturen mit Schrägem Winkel

EP4252070 Art A1 4. Oktober 2023

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4252070
Aktenzeichen: EP21899015
Anmeldetag: 23. November 2021
Veröffentlichung: 4. Oktober 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/00G03F7/004G02B6/00G02B6/10G02B27/01B82Y20/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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