Alkoholverbindung, Chemisch Verstärkte Negativresistzusammensetzung und Verfahren zur Herstellung eines Resistmusters
EP4258056
Art A3
28. Februar 2024
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4258056
- Aktenzeichen
- EP23192171
- Anmeldetag
- 22. Dezember 2021
- Veröffentlichung
- 28. Februar 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C43/23C07C69/44C07C69/712C07C69/76C07C69/82C08L33/26C08L33/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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