Zusammensetzungen zur Entfernung von Photoresist
EP4263776
Art A1
25. Oktober 2023
Anmelder: Merck Patent GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4263776
- Aktenzeichen
- EP21836473
- Anmeldetag
- 13. Dezember 2021
- Veröffentlichung
- 25. Oktober 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C11D3/34C11D11/00C09K13/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Merck Patent GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Merck KGaA
Deutsches Pharma- und Chemieunternehmen mit Sitz in Darmstadt. Aktiv in Biopharmazeutika, Life-Science-Technologien sowie elektronischen Materialien für Halbleiter- und Displayindustrie. Nicht zu verwechseln mit dem US-Unternehmen Merck & Co.
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Fachgebiete
Kanzlei
Isenbruck Bösl Hörschler PartG mbB
Mannheim, Deutschland
Mannheimer Patentanwaltskanzlei mit fachlich-wissenschaftlichem Team in Chemie, Verfahrenstechnik, Polymeren und Kunststofftechnik, Biotech, Pharma und Life Sciences, Mechanik und Optik sowie Elektrotechnik, Digital und KI.
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