Verfahren zum Abscheiden einer Zink-Nickel-Legierung auf einem Substrat, ein Wässriges Zink-Nickel-Abscheidungsbad, ein Glanzmittel und Verwendung davon

EP4273303 Art A1 8. November 2023

Anmelder: Atotech Deutschland GmbH & Co. KG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4273303
Aktenzeichen
EP22171849
Anmeldetag
5. Mai 2022
Veröffentlichung
8. November 2023
Rechtsraum
EP
IPC
C25D3/56C25D21/14C25D21/18C25D21/20
Offizieller Volltext

Abstract

The present invention relates to a method for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate, particularly to a method for electrolytically depositing a zinc-nickel alloy on a substrate, wherein a zinc-nickel deposition bath is utilized as a catholyte comprising at least one brightening agent, wherein the at least one brightening agent has a source which is substantially free of, preferably does not comprise, halogen anions. The present invention furthermore relates to a respective aqueous zinc-nickel deposition bath, a respective brightening agent, and a respective use of said brightening agent for replenishing in an aqueous zinc-nickel deposition bath.

Anmelder

Firma
Atotech Deutschland GmbH & Co. KG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Atotech Deutschland

Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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