Verfahren zum Abscheiden einer Zink-Nickel-Legierung auf einem Substrat, ein Wässriges Zink-Nickel-Abscheidungsbad, ein Glanzmittel und Verwendung davon
Anmelder: Atotech Deutschland GmbH & Co. KG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4273303
- Aktenzeichen
- EP22171849
- Anmeldetag
- 5. Mai 2022
- Veröffentlichung
- 8. November 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C25D3/56C25D21/14C25D21/18C25D21/20
Abstract
The present invention relates to a method for depositing a zinc-nickel alloy on a substrate, particularly to a method for electrolytically depositing a zinc-nickel alloy on a substrate, wherein a zinc-nickel deposition bath is utilized as a catholyte comprising at least one brightening agent, wherein the at least one brightening agent has a source which is substantially free of, preferably does not comprise, halogen anions. The present invention furthermore relates to a respective aqueous zinc-nickel deposition bath, a respective brightening agent, and a respective use of said brightening agent for replenishing in an aqueous zinc-nickel deposition bath.
Anmelder
- Firma
- Atotech Deutschland GmbH & Co. KG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.
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