Interferenzunempfindliches Littrow-System zur Strukturmessung einer Optischen Vorrichtung

EP4275030 Art A1 15. November 2023

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4275030
Aktenzeichen: EP21918067
Anmeldetag: 20. Dezember 2021
Veröffentlichung: 15. November 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G01M11/02G02B27/12G01B11/14G01B11/26G02B5/18G02B27/01

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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