Verwendung von Kontrolliertem Gasdruck für eine Rückseitenwaferstütze

EP4275225 Art A1 15. November 2023

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4275225
Aktenzeichen: EP22737246
Anmeldetag: 10. Januar 2022
Veröffentlichung: 15. November 2023
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/683H01L21/687B23Q3/08C23C16/458H01L21/677

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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