Verfahren zur Nasschemischen Herstellung einer Stabilen Zinnoxidschicht für Leiterplatten (pcbs)

EP4276219 Art A1 15. November 2023

Anmelder: Atotech Deutschland GmbH & Co. KG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4276219
Aktenzeichen: EP22172274
Anmeldetag: 9. Mai 2022
Veröffentlichung: 15. November 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C23C18/16C23C18/54C23C22/02C23C22/58

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Atotech Deutschland GmbH & Co. KG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Atotech Deutschland

Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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