Maskenrohling, Verfahren zur Herstellung einer Resiststruktur und Chemisch Verstärkte Positive Resistzusammensetzung

EP4276534 Art A1 15. November 2023

Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4276534
Aktenzeichen: EP23172015
Anmeldetag: 8. Mai 2023
Veröffentlichung: 15. November 2023
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

4.656 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

Vertreten von