Optisches Bauelement und Optisches System, insbesondere für die Mikrolithographie
EP4283349
Art A1
29. November 2023
Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4283349
- Aktenzeichen
- EP23172459
- Anmeldetag
- 9. Mai 2023
- Veröffentlichung
- 29. November 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B5/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Carl Zeiss SMT GmbH
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Frank, Hartmut
Mülheim a. d. Ruhr, Deutschland
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