Abscheidung von Dielektrischen Schichten auf Siliziumbasis

EP4292122 Art A1 20. Dezember 2023

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4292122
Aktenzeichen: EP22753396
Anmeldetag: 11. Februar 2022
Veröffentlichung: 20. Dezember 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C23C16/04C23C16/40C23C16/455C23C16/56H01L21/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von