Aktive Strahlungsempfindliche oder Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistfilm, Strukturbildungsverfahren und Herstellungsverfahren für Elektronische Vorrichtung

EP4293054 Art A1 20. Dezember 2023

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4293054
Aktenzeichen: EP22752522
Anmeldetag: 17. Januar 2022
Veröffentlichung: 20. Dezember 2023
Rechtsraum: EP
IPC: C08F212/08C08F220/18G03F7/004G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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