Zusammensetzung zur Reinigung eines Halbleitersubstrats, Verfahren zur Reinigung eines Halbleitersubstrats und Verfahren zur Herstellung eines Halbleitersubstrats

EP4293097 Art A1 20. Dezember 2023

Anmelder: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4293097
Aktenzeichen: EP22752689
Anmeldetag: 4. Februar 2022
Veröffentlichung: 20. Dezember 2023
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/02H01L21/311H01L21/3213C11D7/08C11D7/10C11D7/18C11D7/32C11D7/34C11D7/36H01L21/768C11D7/26H01L23/532

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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