Sequentielle Plasma- und Wärmebehandlung
EP4295386
Art A1
27. Dezember 2023
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4295386
- Aktenzeichen
- EP22756729
- Anmeldetag
- 11. Februar 2022
- Veröffentlichung
- 27. Dezember 2023
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/02H10B41/27H10B43/27
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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