Messvorrichtung, Lithografiesystem und Belichtungsvorrichtung sowie Steuerungsverfahren, Überlagerungsmessverfahren und Vorrichtungsherstellungsverfahren
EP4300194
Art A3
10. April 2024
Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4300194
- Aktenzeichen
- EP23211139
- Anmeldetag
- 23. Februar 2016
- Veröffentlichung
- 10. April 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G01B11/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Nikon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
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Fachgebiete
Vertreten von
-
Hoffmann Eitle
Hoffmann Eitle · München