Saatsubstrat zur Verwendung für Epitaktisches Wachstum und Verfahren zur Herstellung davon sowie Halbleitersubstrat und Verfahren zur Herstellung davon
EP4306689
Art A1
17. Januar 2024
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD., Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4306689
- Aktenzeichen
- EP22767036
- Anmeldetag
- 4. März 2022
- Veröffentlichung
- 17. Januar 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/40C30B25/18H01L21/205C30B33/06H01L21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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