Verfahren zur Plasmabehandlung einer Oberfläche eines Substrats

EP4314383 Art A1 7. Februar 2024

Anmelder: Atotech Deutschland GmbH & Co. KG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4314383
Aktenzeichen: EP22715634
Anmeldetag: 31. März 2022
Veröffentlichung: 7. Februar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: C23C18/18C23C18/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Atotech Deutschland GmbH & Co. KG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Atotech Deutschland

Atotech Deutschland ist ein deutscher Anbieter von Oberflächenveredelungschemie, unter anderem für die Elektronik- und Halbleiterindustrie, und gehört zum US-Konzern MKS Instruments. Das Patentportfolio konzentriert sich deutlich auf Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt durch Elektronik und Halbleitertechnik. Anmeldungen erstrecken sich von 2000 bis 2025.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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