Zusammensetzungen zur Entfernung eines Fotolacks von einem Substrat und Verwendungen davon
Anmelder: Versum Materials US, LLC 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4314951
- Aktenzeichen
- EP22796942
- Anmeldetag
- 19. April 2022
- Veröffentlichung
- 7. Februar 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/42C11D11/00C11D7/06C11D7/26C11D3/04C11D3/43H01L21/3105
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Versum Materials US, LLC
- Land
- 🇺🇸 USA
Versum Materials US, LLC war ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und -gasen für die Halbleiterfertigung, der 2019 von Merck KGaA übernommen wurde. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Oberflächentechnik, ergänzt um Farben, Klebstoffe und organische Chemie. Anmeldungen erfolgten zwischen 2002 und 2025.
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