Integriertes Verfahren und Werkzeug zur Qualitativ Hochwertigen Selektiven Ablagerung von Siliziumnitrid

EP4321006 Art A1 14. Februar 2024

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4321006
Aktenzeichen: EP23798326
Anmeldetag: 7. April 2023
Veröffentlichung: 14. Februar 2024
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/32H10B41/27H10B43/27H01L21/02H01L21/67H10D64/01

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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