Pellikelrahmen, Pellikelfotomaske mit Pellikel, Belichtungsverfahren, Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements und Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristallanzeige

EP4321931 Art A1 14. Februar 2024

Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4321931
Aktenzeichen
EP22784593
Anmeldetag
30. März 2022
Veröffentlichung
14. Februar 2024
Rechtsraum
EP
IPC
G03F1/64C09J7/38
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Shin-Etsu Chemical

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.

1.545 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen