Pellikelrahmen, Pellikelfotomaske mit Pellikel, Belichtungsverfahren, Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements und Verfahren zur Herstellung einer Flüssigkristallanzeige
EP4321931
Art A1
14. Februar 2024
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4321931
- Aktenzeichen
- EP22784593
- Anmeldetag
- 30. März 2022
- Veröffentlichung
- 14. Februar 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/64C09J7/38
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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