Halbleiterstruktur und Herstellungsverfahren dafür sowie Speicher und Herstellungsverfahren dafür

EP4322219 Art B1 11. Februar 2026

Anmelder: Changxin Memory Technologies, Inc. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4322219
Aktenzeichen
EP22783273
Anmeldetag
8. Juli 2022
Veröffentlichung
11. Februar 2026
Erteilung
11. Februar 2026
Rechtsraum
EP
IPC
H10B12/00H10D1/66H01L23/00H01L25/065H01L25/18H01L25/00
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Changxin Memory Technologies, Inc.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Changxin Memory Technologies

Chinesischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Hefei, spezialisiert auf DRAM-Speicherchips.

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