Aktive Lichtempfindliche oder Strahlungsempfindliche Harzzusammensetzung, Resistfilm, Strukturbildungsverfahren, Verfahren zur Herstellung einer Elektronischen Vorrichtung und Verbindung
EP4324822
Art A1
21. Februar 2024
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4324822
- Aktenzeichen
- EP22788126
- Anmeldetag
- 8. April 2022
- Veröffentlichung
- 21. Februar 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C07C309/06C07C309/12C07C309/17C07C309/40C07C309/42C07C311/53C07C381/12C07D309/12C09K3/00C07D493/18G03F7/004G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07D307/00C07D307/12
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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