Halbleitergehäusestruktur und Herstellungsverfahren

EP4325558 Art B1 1. Oktober 2025

Anmelder: Changxin Memory Technologies, Inc. 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4325558
Aktenzeichen
EP22830682
Anmeldetag
1. August 2022
Veröffentlichung
1. Oktober 2025
Erteilung
1. Oktober 2025
Rechtsraum
EP
IPC
H01L23/31H01L21/56H01L23/552H01L23/60H01L23/433H01L25/10// H01L21/60H01L25/065
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Changxin Memory Technologies, Inc.
Land
🇨🇳 China
🇨🇳 Changxin Memory Technologies

Chinesischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Hefei, spezialisiert auf DRAM-Speicherchips.

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