Zusammensetzung für Haftschicht einer Wasserfreien Sekundärbatterie, Haftschicht und Verfahren zu Ihrer Herstellung
EP4333096
Art A1
6. März 2024
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4333096
- Aktenzeichen
- EP22795821
- Anmeldetag
- 26. April 2022
- Veröffentlichung
- 6. März 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01M4/13H01M4/139H01M10/058H01M50/46C08F220/06H01M4/04H01M4/62H01M10/052
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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Vertreten von
-
Maiwald GmbH
Maiwald GmbH · München