Siliciumnitridfilme mit Hohem Stickstoffgehalt

EP4345189 Art A3 26. Juni 2024

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4345189
Aktenzeichen
EP24158662
Anmeldetag
5. Juli 2018
Veröffentlichung
26. Juni 2024
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/02C23C16/34C23C16/505C23C16/56C23C16/04C23C16/452C23C16/455
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Applied Materials, Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

6.825 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen