Herstellung von Metall-Gate-Schnitten mit mehreren Durchgängen zur Tiefensteuerung

EP4345878 Art B1 31. Dezember 2025

Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4345878
Aktenzeichen: EP23191474
Anmeldetag: 15. August 2023
Veröffentlichung: 31. Dezember 2025
Erteilung: 31. Dezember 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H10D30/01H10D30/67H10D62/17H10D84/03// B82Y10/00H10D62/10H10D84/01H10D84/83

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: INTEL Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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