Fotoresistformulierungen für 3D-Mikrodrucktechniken
EP4347263
Art B1
25. Februar 2026
Anmelder: Fondazione Istituto Italiano di Tecnologia 🇮🇹
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4347263
- Aktenzeichen
- EP22731314
- Anmeldetag
- 20. Mai 2022
- Veröffentlichung
- 25. Februar 2026
- Erteilung
- 25. Februar 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B33Y10/00B33Y70/00G03F7/00G03F7/027G03F7/029G03F7/031G03F7/20G03F7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fondazione Istituto Italiano di Tecnologia
- Land
- 🇮🇹 Italien
🇮🇹
Fondazione Istituto Italiano di Tecnologia
Die Fondazione Istituto Italiano di Tecnologia ist eine italienische Forschungsstiftung mit Sitz in Genua, die interdisziplinäre Technologieforschung betreibt. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik sowie Mess- und Prüftechnik, ergänzt um Pharma, organische Chemie und Halbleitertechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2003 bis 2025 ab.
420 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Biggi, Cristina
Milano, Italien
493
Patente gesamt
28
Fachgebiete
18
Anmelder-Länder
Schwerpunkte