Fotoresistformulierungen für 3D-Mikrodrucktechniken
EP4347263
Art B1
25. Februar 2026
Anmelder: Fondazione Istituto Italiano di Tecnologia 🇮🇹
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4347263
- Aktenzeichen
- EP22731314
- Anmeldetag
- 20. Mai 2022
- Veröffentlichung
- 25. Februar 2026
- Erteilung
- 25. Februar 2026
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B33Y10/00B33Y70/00G03F7/00G03F7/027G03F7/029G03F7/031G03F7/20G03F7/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Fondazione Istituto Italiano di Tecnologia
- Land
- 🇮🇹 Italien
Vertreten von
Biggi, Cristina
Milano, Italien
493
Patente gesamt
28
Fachgebiete
18
Anmelder-Länder
Schwerpunkte