In-Situ-Epi-Wachstumsratensteuerung eines Mikroausgleichssensors für Kristalldicke
EP4347931
Art A1
10. April 2024
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4347931
- Aktenzeichen
- EP22816606
- Anmeldetag
- 8. April 2022
- Veröffentlichung
- 10. April 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B25/14C30B25/16C30B35/00C23C16/52H01L21/67H01L21/687C23C16/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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