Verbesserte Maskenmuster-Bewusste Heuristiken für Optische Proximitätskorrekturen für Integrierte Schaltungen

EP4357851 Art A1 24. April 2024

Anmelder: INTEL Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4357851
Aktenzeichen: EP23196630
Anmeldetag: 11. September 2023
Veröffentlichung: 24. April 2024
Rechtsraum: EP
IPC: G03F1/36G03F7/00G06F30/398

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: INTEL Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

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