Reinigungszusammensetzung, Verfahren zur Reinigung eines Halbleitersubstrats und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterelements

EP4358117 Art B1 2. Juli 2025

Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4358117
Aktenzeichen: EP22824861
Anmeldetag: 7. Juni 2022
Veröffentlichung: 2. Juli 2025
Erteilung: 2. Juli 2025
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/02H01L21/304C11D1/12C11D1/22C11D3/20C11D3/36

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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