Sin-Reinigung mit Ccp-Plasma oder Rps-Reinigung

EP4363629 Art A1 8. Mai 2024

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4363629
Aktenzeichen: EP22834031
Anmeldetag: 28. Juni 2022
Veröffentlichung: 8. Mai 2024
Rechtsraum: EP
IPC: C23C14/56C23C14/34C23C14/50H01J37/34H01J37/32H10P72/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von