Verfahren zur Strukturformung und Plasmaverarbeitungsverfahren

EP4369381 Art A1 15. Mai 2024

Anmelder: Tokyo Electron Limited, Tokyo Institute of Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4369381
Aktenzeichen: EP22837530
Anmeldetag: 27. Juni 2022
Veröffentlichung: 15. Mai 2024
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3065C08G77/42G03F7/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Tokyo Electron Limited
Tokyo Institute of Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tokyo Institute of Technology

Japanische technische Universität in Tokio mit Schwerpunkt auf Natur- und Ingenieurwissenschaften. Seit 2024 firmiert sie im Zuge einer Fusion als Institute of Science Tokyo.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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