Strukturbildungsverfahren, Herstellungsverfahren für Elektronische Vorrichtung, Gegenüber Aktinischer Strahlung oder Strahlung Empfindliche Harzzusammensetzung und Resistfilm
EP4372466
Art A1
22. Mai 2024
Anmelder: FUJIFILM Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4372466
- Aktenzeichen
- EP22842108
- Anmeldetag
- 12. Juli 2022
- Veröffentlichung
- 22. Mai 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/32G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJIFILM Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fujifilm
Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.
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