Geformter Abwehrmechanismus für eine Indirekt Geheizte Kathodenionenquelle

EP4377989 Art A1 5. Juni 2024

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4377989
Aktenzeichen: EP22850069
Anmeldetag: 7. Juli 2022
Veröffentlichung: 5. Juni 2024
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/08H01J27/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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