Polierflüssigkeit für Cmp, Polierflüssigkeitssatz für Cmp und Polierverfahren

EP4379776 Art A1 5. Juni 2024

Anmelder: Resonac Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4379776
Aktenzeichen: EP22853102
Anmeldetag: 3. August 2022
Veröffentlichung: 5. Juni 2024
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/3105C09G1/02C09K3/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Resonac Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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