Mehrschichtiger Molekularer Filmfotoresist mit Molekularer Linienstruktur und Verfahren zur Herstellung davon
EP4386482
Art A1
19. Juni 2024
Anmelder: HUNETPLUS CO., LTD., IUCF-HYU (INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG UNIVERSITY) 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4386482
- Aktenzeichen
- EP22856301
- Anmeldetag
- 12. August 2022
- Veröffentlichung
- 19. Juni 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/09G03F7/004G03F7/16G03F7/11
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- HUNETPLUS CO., LTD.
IUCF-HYU (INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG UNIVERSITY) - Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
Iucf-hyu (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University)
Die IUCF-HYU verwaltet Forschungsergebnisse und Patente der Hanyang University in Südkorea. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiterbauelemente sowie Medizintechnik, ergänzt um anorganische Chemie und Software. Anmeldungen reichen von 2002 bis 2025.
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