Mehrschichtiger Molekularer Filmfotoresist mit Molekularer Linienstruktur und Verfahren zur Herstellung davon

EP4386482 Art A1 19. Juni 2024

Anmelder: HUNETPLUS CO., LTD., IUCF-HYU (INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG UNIVERSITY) 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4386482
Aktenzeichen
EP22856301
Anmeldetag
12. August 2022
Veröffentlichung
19. Juni 2024
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/09G03F7/004G03F7/16G03F7/11
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
HUNETPLUS CO., LTD.
IUCF-HYU (INDUSTRY-UNIVERSITY COOPERATION FOUNDATION HANYANG UNIVERSITY)
Land
🇰🇷 Südkorea
🇰🇷 Iucf-hyu (Industry-University Cooperation Foundation Hanyang University)

Die IUCF-HYU verwaltet Forschungsergebnisse und Patente der Hanyang University in Südkorea. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiterbauelemente sowie Medizintechnik, ergänzt um anorganische Chemie und Software. Anmeldungen reichen von 2002 bis 2025.

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