Polymer, Lichtempfindliche Harzzusammensetzung, Lichtempfindliches Element, Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur und Verfahren zur Bildung einer Verdrahtungsstruktur

EP4388020 Art A1 26. Juni 2024

Anmelder: Resonac Corporation, Shanghai Jiao Tong University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP4388020
Aktenzeichen: EP21958661
Anmeldetag: 28. September 2021
Veröffentlichung: 26. Juni 2024
Rechtsraum: EP
IPC: C08F220/02H05K3/00C09D4/06C08F265/06C08F212/08H05K3/06

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Resonac Corporation
Shanghai Jiao Tong University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

794 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Kunststoff- & Polymertechnik

Vertreten von