Polymer, Lichtempfindliche Harzzusammensetzung, Lichtempfindliches Element, Verfahren zur Bildung einer Resiststruktur und Verfahren zur Bildung einer Verdrahtungsstruktur

EP4388020 Art A1 26. Juni 2024

Anmelder: Resonac Corporation, Shanghai Jiao Tong University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4388020
Aktenzeichen
EP21958661
Anmeldetag
28. September 2021
Veröffentlichung
26. Juni 2024
Rechtsraum
EP
IPC
C08F220/02H05K3/00C09D4/06C08F265/06C08F212/08H05K3/06
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Resonac Corporation
Shanghai Jiao Tong University
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Resonac

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, hervorgegangen aus Showa Denko. Das Unternehmen stellt unter anderem Halbleitermaterialien, Elektronikchemikalien und funktionale Chemieprodukte her.

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Die Shanghai Jiao Tong University ist eine der führenden chinesischen Universitäten mit breiter Forschung in Technik, Medizin und Naturwissenschaften. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Medizintechnik und Gesundheit sowie Software und Datenverarbeitung, ergänzt durch Pharma und Biotechnologie sowie Nachrichtentechnik. Anmeldungen reichen von 2003 bis 2025.

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