Belichtungsmembran mit Möglichkeit zur Einstellung des Luftdrucks bei Hoher Geschwindigkeit
EP4394501
Art A1
3. Juli 2024
Anmelder: SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4394501
- Aktenzeichen
- EP22861339
- Anmeldetag
- 23. August 2022
- Veröffentlichung
- 3. Juli 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/62D04H1/4242D04H1/74D04H1/728G03F1/64B01D39/16D01D5/00G03F1/24G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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