Sputtervorrichtung und Filmbildungsverfahren

EP4397782 Art A1 10. Juli 2024

Anmelder: Canon Anelva Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4397782
Aktenzeichen
EP21955932
Anmeldetag
31. August 2021
Veröffentlichung
10. Juli 2024
Rechtsraum
EP
IPC
C23C14/22C23C14/34C23C14/35H01J37/34
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Canon Anelva Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Canon Anelva

Canon Anelva ist ein japanischer Hersteller von Vakuum- und Beschichtungsanlagen für die Halbleiterindustrie und Teil des Canon-Konzerns. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Metallurgie und Oberflächentechnik, ergänzt um Schaltungstechnik. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2024 ab.

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