Zusammensetzung für Haftschicht einer Wasserfreien Sekundärbatterie, Haftschicht und Verfahren zu Ihrer Herstellung
EP4398402
Art A1
10. Juli 2024
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4398402
- Aktenzeichen
- EP22864302
- Anmeldetag
- 19. August 2022
- Veröffentlichung
- 10. Juli 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01M50/403H01M4/13H01M4/139H01M50/42H01M50/443H01M50/46C08F220/18C09J7/30H01M4/04H01M10/0585H01M10/052H01M10/0525C09J133/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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Vertreten von
-
Maiwald GmbH
Maiwald GmbH · München