Aufschlämmungszusammensetzung für Haftschicht einer Wasserfreien Sekundärbatterie, Haftschicht einer Wasserfreien Sekundärbatterie und Herstellungsverfahren dafür
EP4398404
Art A1
10. Juli 2024
Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4398404
- Aktenzeichen
- EP22864670
- Anmeldetag
- 31. August 2022
- Veröffentlichung
- 10. Juli 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01M50/449C08L25/00C08L33/04C08L51/06C08L101/14H01M50/403H01M50/414H01M50/42H01M50/443H01M50/451H01M50/457H01M50/489C08F212/08C08F265/04C08L33/06C08L51/00C09D125/14H01M4/13H01M10/0525H01M50/46
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Zeon Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Zeon
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.
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Vertreten von
-
Maiwald GmbH
Maiwald GmbH · München