Versteifungsrahmen für Halbleitergehäuse
EP4399740
Art A1
17. Juli 2024
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4399740
- Aktenzeichen
- EP22867876
- Anmeldetag
- 11. August 2022
- Veröffentlichung
- 17. Juli 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L23/00H01L23/14H01L23/498H01L25/065// H01L23/367
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank