Sputtertarget, Verfahren zur Herstellung davon und Verfahren zur Herstellung eines Sputterfilms unter Verwendung des Sputtertargets
EP4400627
Art A1
17. Juli 2024
Anmelder: Tosoh Corporation, Tosoh Speciality Materials Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4400627
- Aktenzeichen
- EP22878566
- Anmeldetag
- 5. Oktober 2022
- Veröffentlichung
- 17. Juli 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/34C22C27/04C23C14/14C22F1/11B22F3/18C22C27/06C22F1/18B22F3/15H01J37/34C22C1/04B21B1/00B21B3/00B22F3/24
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Tosoh Corporation
Tosoh Speciality Materials Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tosoh Corporation
Japanisches Chemieunternehmen, das Petrochemikalien, Spezialchemikalien und Zement herstellt.
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