Verfahren zur Herstellung einer Halbleitervorrichtung und Leiterrahmen
EP4401132
Art A1
17. Juli 2024
Anmelder: Towa Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4401132
- Aktenzeichen
- EP22867012
- Anmeldetag
- 14. Juni 2022
- Veröffentlichung
- 17. Juli 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L23/50H01L21/56H01L23/495// H01L21/60H01L23/31
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Towa Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Towa
Towa ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterverpackung, insbesondere Formmaschinen. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiterbauelemente und Kunststofftechnik, ergänzt durch Werkzeug- und Fertigungstechnik. Die Titel betreffen unter anderem Schneidvorrichtungen und -verfahren für gefertigte Bauteile.
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