Elektroplattierung einer Coplanaritätsverbesserung durch Chipabschirmung
EP4402306
Art A1
24. Juli 2024
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP4402306
- Aktenzeichen
- EP22870533
- Anmeldetag
- 9. September 2022
- Veröffentlichung
- 24. Juli 2024
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C25D17/00C25D21/10C25D17/06C25D7/12C25D5/04C25D5/00C25D21/12C25D5/02C25D5/18C25F3/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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