Verfahren zur Reinigung eines Halbleitersubstrats und Verfahren zur Herstellung eines Verarbeiteten Halbleitersubstrats

EP4404244 Art A1 24. Juli 2024

Anmelder: Nissan Chemical Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP4404244
Aktenzeichen
EP22869958
Anmeldetag
13. September 2022
Veröffentlichung
24. Juli 2024
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/02// H01L21/311H01L21/683
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Nissan Chemical Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

2.124 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen